Microchem SU-8负性光刻胶常见问题解答

发布时间:2019-03-05    浏览:85次

1. SU-8SU-82000光刻胶产品有什么区别?

SU-8光刻胶首先由MicroChem1996年商业推出。这些光刻胶配制在γ-丁内酯(GBL)溶剂中。后面推出了SU-8 2000系列,它采用环戊酮溶剂配制而成,具有改善的涂层和粘合性能。此外,它们在旋涂后直接与传统的边缘珠粒去除工艺兼容。

2. 在单一旋涂工艺中,我可以涂多少厚的SU-8SU-82000

SU-8SU-82000树脂/溶剂体系具有独特的分子特性,这使我们能够制造具有相对低粘度的非常高固含量的配方。这使我们能够提供范围广泛的产品,其膜厚范围比任何其他市售光刻胶更广泛。我们的产品设计用于生产从<1um>300um的均匀光刻胶膜,采用传统的单旋涂工艺。

3. 我经常在涂覆后或在预烘烤过程中观察抗蚀膜中的气泡。我该如何消除气泡?

如果在瓶子中观察到气泡,我们建议将光刻胶瓶在直立位置(50-60)加热30分钟,这将降低粘度并使气泡从溶液中上升。一旦除去气泡,在使用前让光刻胶达到室温。

当用注射器分配时,通常在光刻胶膜中观察到气泡。为了防止在分配过程中形成气泡,增加孔的尺寸并在分配之前从注射器中除去空气。

4. 如何在非常厚的薄膜中生产具有接近垂直侧壁的SU-8结构?

SU-82000光刻胶是光学透明且功能强大的,这允许非常厚的膜中的高纵横比结构通过优化的光刻工艺成像。优化技术包括:曝光带宽的光谱整形 - 去除在光刻胶膜上部吸收的较短波长,并导致负斜率的侧壁微调曝光剂量和曝光后烘烤(PEB)过程,以便在整个光刻胶膜中获得均匀的交联密度,并优化预烘烤和显影过程。有关建议的基线流程的更多信息,请参阅我们的SU-82000技术数据表或您的SU-8技术销售代表。

5. 什么类型的开发人员与SU-8SU-8 2000兼容?

SU-8SU-82000光刻胶是溶剂可显影的。许多更安全的溶剂系统,包括SU-8显影剂,乳酸乙酯和双丙酮醇,与SU-8配合良好。可以使用两阶段浸没显影工艺来增加产量,特别是对于非常厚的膜或环戊酮(SU-8 2000稀释剂),然后是第二次用SU-8显影剂。

6. 厚膜SU-8结构可以喷涂模式开发吗?

可以。事实上,我们建议使用喷雾开发工艺,并在我们的实验室中常规使用它们进行薄膜和厚膜开发应用。优化的喷涂显影工艺快速,清洁,与高纵横比结构兼容,并降低通常与长时间浸泡/声波显影过程相关的光刻胶粘附失效的风险。

7. 如何剥离SU-8

SU-8是一种功能强大的环氧树脂,因此非常难以剥离。传统的汽提溶剂,包括MicroChem的去除剂PG,将因化并提升部分交联的SU-8,但不会去除硬烘烤(固化)的SU-8。然而,数十名SU-8用户已经成功开发了剥离工艺。技术包括RIE等离子体灰化,激光烧蚀,熔盐浴,CO2晶体和水射流以及热解等。

关注我们的官网微信:microfluidic_Cchip,我们后续会提供更多使用SU-8光刻胶的方法与解决方案。

 

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