产品名称：铬版玻璃光刻掩膜版

产品型号：3英寸铬版掩膜、4英寸铬版掩膜、5英寸铬版掩膜（支持定制）

铬版玻璃光刻掩膜版简介：

铬版玻璃光刻掩膜版简称铬版掩膜，主要用于MEMS工艺中光刻机曝光操作。在铬版掩膜上有的图形区域透光，有的图形区域不透光。在光刻工艺中，紫外光或其他光刻胶敏感的光透过铬版掩膜，照射到基材表面的光刻胶层，从而实现了光刻胶的曝光操作，实现了图形的转移。在微流控芯片加工领域，加工PDMS微流控芯片和玻璃微流控芯片，需要用到铬版玻璃掩膜。公司提供定制服务，可以根据客户图纸定制铬版掩膜。